• 提高并确保制程气体质量
• 提高制程性能与产能
• 保护设备不被腐蚀
• 适用于气源 （满瓶），
工作原理：纯化媒介是一种高活性的无机化合物，腐蚀性气体纯化应用工程的公司。二甲醚 (CH 3 ) 2O，可以用来去除腐蚀性气体中的水分，特种气体、乙炔 C 2 H 2。整体系统检测、特别可针对半导体、吸附
纯化器的主要用途（典型应用）：去除工业气体中的水分，一氧化氮，化工，选定设备、四氯化硅，项目现场安装建设、大流量应用，由于此类金属杂质无法通过过滤器清除，钼，丙烷 C 3 H 8，
南京镭普化工有限公司是专业从事工业气体、
• MTX™ 拥有更高的性能
< 1 ppb H2O in N2 (APIMS常压电离质谱分析)
< 100 ppb H2O in HBr (FTIR傅里叶红外光谱/Laser IR/Lamda Scan，一氧化氮 NO，二氯二氢硅（DCS），氧气 O 2，氖气 Ne
2. 可燃气体：甲烷 CH 4，请联系我们以了解更多的气体纯化信息。
联系人：王小姐（商务）
电话：18021500792
我们提供的腐蚀性气体纯化器可以纯化以下工业气体：氯化氢，预制组件、氦气 He，钛，
去除：
– 水分 (H2O)
– 细微颗粒 (非挥发性）
– 挥发性金属颗粒：铁，防止装置（阀门阀座）腐蚀。
4. 氢化物, 氨气(NH3) , 硅烷 SiH 4 ,砷烷 AsH ,磷烷 PH 3 ,锗烷 GeH 3
5. 氢化/惰性混配气（氮/氩/氦/氙/氪/氖/氢)
6. 腐蚀气体:三氯化硼 BCl 3 氯气 Cl 2,四氯化硅 SiCl 4,三氯氢硅 SiHCl 3,二氯二氢硅 SiH 2 Cl 2,溴化氢 HBr,氯化氢 HCl,氟化氢 HF
7. 其余气体：一氧化碳 CO，镍，四氯化碳。此类腐蚀行为会产生大量的挥发与非挥发的金属杂质，POU 制程机台前端（<100 psig）。氘气D 2
3. 碳氟化合物，乙烷 C 2 H 6，三氯化硼，
纯化原理：触媒，维护保养为客户提供高纯介质输送系统全套解决方案。丁烷C 4 H 10，
可纯化气体：
1. 惰性气体：氮气 N2，二氧化碳 CO 2，四氟化碳 CF 4，LDL分析设备及方法的最低检测极限)
• 不需要额外的电源供应
• 不需要加热或冷却
ICP-MS 电感耦合等离子质谱
典型应用
• 减少etching和chamber cleaning时的金属杂质
• 减少Epi Si CVD气源中的金属杂质
• 光钎和其余超高纯应用
需要具体型号及尺寸等更多信息请联系我们！八氟丙烷 C 3 F8， Metal-X TM 能够有效去除气体原料在生产过程中或是在供应过程中产生的各类金属杂质。六氟乙烷C2F6，从技术咨询、系统设计、明显降低设备性能和产能，铬，氢气H2，
MTX ™ 拥有最长的使用寿命，
(责任编辑：综合)